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ERWIN OLAF AU GEMEENTEMUSEUM

17 fév - 12 mai 2019

"Ce que je veux surtout montrer, c'est un monde parfait avec une fissure. Je veux rendre l'image assez séduisante pour attirer les gens dans le récit, puis pour porter un coup."
- Erwin Olaf



Le Gemeentemuseum Den Haag et le Musée de la photographie de La Haye rendent hommage à l'un des photographes les plus célèbres des Pays-Bas, Erwin Olaf (né en 1959), avec une double exposition. Erwin Olaf, dont les récentes séries, à Shanghai, Palm Springs ou des portraits de la famille royale ont suscité une grande admiration, aura soixante ans cette année, un moment propice pour organiser une grande rétrospective. Le Musée de la photographie de La Haye met l?accent sur la passion d?Olaf pour son métier et sa transition de photojournaliste analogique au créateur d?images numériques et à une photographie plus narrative. Dans cette exposition Erwin Olaf a en plus séléctionné une vingtaine de photographies de photographes célèbres, source d'inspiration vitale pour lui aux correspondances émouvantes. Le Gemeentemuseum Den Haag présente quant à lui une exposition couvrant la période de 2000 à nos jours avec ses dernières séries, notamment celles qu?il a produites à Shanghai et à Palm Springs. Erwin Olaf expose au musée ses photographies sous la forme d'installations, combinant video, son et sculpture.